Osservando il wafer di silicio sistema PECVD per la deposizione di strati di passivazione nitruro di silicio su wafer plasma a caricamento aperto e Clea utensile per deposizione
RMID:ID dell’immagine:2XD1P5J
Detagli dell'immagine
Collaboratore:
Javier LARREAID dell’immagine:
2XD1P5JDimensioni dei file:
58,6 MB (1,9 MB Download compresso)Liberatorie:
Modello - no | Proprietà - sìMi occorre una liberatoria?Dimensioni:
5543 x 3695 px | 46,9 x 31,3 cm | 18,5 x 12,3 inches | 300dpiAltre informazioni:
